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      深圳市金徠技術有限公司

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      新聞資訊

      半導體去膠技晶圓等離子去膠工藝,可去除光刻膠、污染物、殘余物和其他無用雜質

      發表時間: 2023-11-02 16:29:42

      作者: 深圳金徠技術有限公司

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      等離子干式去膠工藝速度快,等離子干法去膠利用高能等離子體處理光刻膠表面,去膠徹底且速度快。 無需引入化學物質,從而減少了對晶圓材料的腐蝕和損傷。等離子體去膠法無需進行廢液處理。

      等離子去膠機在晶圓制造工藝中扮演著重要的角色。晶圓去膠是一個重要的步驟,它用于去除晶圓表面的膠層,以便進行后續的加工和制造步驟。 


      光刻膠(PR, Photo Resist)是半導體晶圓制造的核心材料,在晶圓制程中,光刻工藝約占整個晶圓制造成本的35%,耗時占整個晶圓工藝的40-50%。在光刻環節里有個不可或缺的步驟就是晶圓去膠,光刻膠去膠工藝在離子植入或刻蝕之后,晶圓表面剩余光刻膠和殘余物需要通過去膠工藝進行完全清除。為了清除光刻膠、顆粒、污染物、殘余物和其他無用材料,必須在制造過程中對硅片清洗,提高芯片成品率。 


      半導體光刻膠去除工藝,一般分成兩種,濕法去膠和干法去膠。相對于濕法去膠,等離子干法去膠利用高能等離子體處理光刻膠表面,去膠徹底且速度快,不需引入化學物質,減少了對晶圓材料的腐蝕和損傷,是現有去膠工藝中最好,有效且高效的半導體光刻膠去除工具,具有高效、均勻、無損傷等特點。

       

      等離子干式去膠工藝優勢: 
      徹底去膠且速度快:等離子干法去膠利用高能等離子體處理光刻膠表面,去膠徹底且速度快。 
      無需引入化學物質:這種方法不需要引入化學物質,從而減少了對晶圓材料的腐蝕和損傷。 
      成品率高、工序簡單、時間短:等離子體去膠法是一種干式法,具有成品率高、工序簡單、時間短的優點。 
      操作較安全、重復性好:這種方法的操作較安全,重復性好。 
      無需進行廢液處理:等離子體去膠法無需進行廢液處理。 
      環保干凈,清洗過程可控性非常強:等離子干刻機的去膠只需氣體的參與,無需化學試劑的浸泡,無需烘干,整個處理環保干凈,清洗過程可控性非常強。 

      降低成本,提高產品的良品率以及生產效率:這種工藝還能夠降低成本,提高產品的良品率以及生產效率。 


      等離子干式去膠工藝適用多種場景: 
      半導體晶圓:半導體單片掃膠、掃底膜工藝、元器件封裝前、芯片制造等行業的重要清洗步驟。 
      硅基材料:硅基材料的晶圓表面去膠清洗。 
      砷化鎵、氮化鎵等:等離子去膠的工作原理是在真空狀態下,使得氣體產生活性等離子體,以此,在物理、化學雙重作用下對清洗的部件如砷化鎵、氮化鎵等進行表面的轟擊。 
      光刻膠:用于光刻膠去除。 
      碳化硅:用于碳化硅刻蝕。 
      硬掩膜層:用于硬掩膜層干法清除。 

      氧化硅或氮化硅:用于氧化硅或氮化硅刻蝕。 


      等離子去膠機采用高密度、低損傷等離子源設計,獨立腔室結構,用實現均勻的流場分布,去膠均勻性表現優異,達到高水平的去膠速率。它在半導體器件制造過程中起著重要的作用,幫助提高生產效率并保持晶圓的質量。 


      半導體去膠技晶圓等離子去膠工藝,可去除光刻膠、污染物、殘余物和其他無用雜質
      等離子干式去膠工藝速度快,等離子干法去膠利用高能等離子體處理光刻膠表面,去膠徹底且速度快。 無需引入化學物質,從而減少了對晶圓材料的腐蝕和損傷。等離子體去膠法無需進行廢液處理。
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